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真空鍍膜
PVD、ALD過程中的精密氣體流量控制
真空鍍膜系統(tǒng)內(nèi)凈化氣體和反應(yīng)氣體的輸入需要快速、穩(wěn)定、精確的控制。設(shè)計創(chuàng)新的ALICAT質(zhì)量流量控制器不但在性能可靠性上優(yōu)于傳統(tǒng)MFC,并提供可競爭的銷售價格。
真空鍍膜應(yīng)用中可靠產(chǎn)出的保障
?快速控制清潔氣和反應(yīng)氣的流量,從而確保真空鍍膜腔體內(nèi)最佳的氣體混合
?微小流量的精密控制 – 最小可控流量為0.025sccm!
?試驗室和各種測試臺的首選
?開放行業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的通訊協(xié)議,如:EtherNet/IP,DeviceNet等,方便各種工業(yè)應(yīng)用
影響真空鍍膜最終結(jié)果的設(shè)備和因素
?壓力控制器、質(zhì)量流量控制器
?快速、精密的氣氛控制,以保障最佳鍍膜效果
?簡化的系統(tǒng)設(shè)計,從而節(jié)省真空鍍膜設(shè)備的安裝和維護成本
?氣體可切換,以減少不必要的質(zhì)量流量控制器庫存
?適用于腐蝕性氣體的不銹鋼本體